DK lučni ionski premaz

Lučni premaz

PVD- Fizičko taloženje pare
Jedan oblik fizičkog taloženja pare (PVD premaz) je lučni ionski premaz. Povijest PVD premaza počela je koristiti ARC tehnologiju koja je podrijetlo u lučnom zavarivanju.

Ciljevi

Metal za isparavanje postavlja se kao čvrsti blok (cilj) na unutrašnjost vakuumske komore. Sjajni pražnjenje se zapali i radi na cilju, ostavljajući trag. Male mrlje od nekoliko ciljanih materijala promjera µm ispare se. Kretanje luka može se voditi magnetima.

Plazma prevlaka

Ispunjeni ionizirani materijal koristi se kao plazma premaz na proizvodu koji se okreće unutar vakuumske komore. ARC premazi koriste se kao oblaganje alata i komponenta.

Primjeri premaza

Primjeri premaza luka su Tin, Aitin, AICRN, Tisin, Ticn, CRCN i CRN premaz

Shematski prikaz PVD ARC procesa.

Karakterizirana tehnologija prevlake luka:

Visoke stope taloženja (1 ~ 3 µm/h) visoka ionizacija, što rezultira dobrim adhezijom i gustim premazima, jer se meta hladi, stvara se malo topline supstrata, čak je i premaz na temperaturama ispod 100 ℃ moguće da se nekoliko sastava metala može ispariti, a ostavljajući preostalih čvrstih ciljanih u njegovu kompoziciju. Katode se mogu smjestiti u bilo koji položaj (vodoravni, okomiti, naopako), što omogućuje fleksibilni dizajn stroja.

Glavni nedostaci tehnologije za prevlačenje luka:

Ograničena vrsta ciljanih materijala - samo metali (bez oksida) - koji nemaju prenisku temperaturu isparavanja zbog velike gustoće struje, neka količina ciljnog materijala izbacuje se kao male kapljice tekućine.