Magnetron SPITTERING VAKUUM STROJSKI STROJ

Magnetron SPITTERING VAKUUM STROJSKI STROJ

Sustav vakuumskog premaza magnetrona koristi visokoenergetske ione za odlaganje tankog sloja materijala na supstrat. Proces je brz i jeftin i stvara smot visoke čistoće. Visokoenergetski ioni oslobađaju se iz izvornog materijala i sudaraju se s inertnim plinom, poput Argona. Ovi ioni proizvode plazmu i atomi izvornog materijala se izbacuju.

Magnetron SPITTHING VAKUUM STROJSKI STROJI OBOTNO se koristi u proizvodnji nakita. Njegovi rotacijski i stacionarni dizajni mogu se lako prilagoditi kako bi udovoljili širokom rasponu zahtjeva za oblogom. Ovaj je stroj pogodan za oblaganje bilo kojeg metalnog ili nemetalnog supstrata. Također se može koristiti za premazivanje plastičnog, keramičkog i kristalnog stakla. Njegove značajke vrhunskog razreda uključuju dobru ujednačenost i brze stope taloženja.

Sustav vakuumskog premaza magnetrona moćan je i svestran alat za proizvodnju visokih količina. Ovisno o potrebama i primjeni, ova tehnika može stvoriti tanke filmove sa širokim rasponom željenih svojstava. Za optimizaciju procesa mogu se koristiti različiti elektroenergetski sustavi, materijali i plinovi. Prije nego što postupak započne, supstrat se montira u držač. Držač tada prolazi kroz komoru za zaključavanje opterećenja kako bi se spriječilo da se pomiče.

Ovaj sustav vakuumskog premaza je jeftina metoda koja proizvodi visokokvalitetne prevlake s visokim postotkom prolazne stope. Idealan je za proizvodnju zrakoplovne i vrhunske elektronike. Također se može koristiti za legiranje i kompozitne metalne filmove. Ovo je ekonomičan i učinkovit način premazanja mnogih vrsta materijala.

Sustav za raspršivanje magnetrona za raspršivanje koristi izvor prskanja koji iskorištava ograničenje elektrona. Magneti hvataju elektrone na površini cilja, što rezultira većom gustoćom plazme i većim stopama taloženja. Za razliku od konvencionalnih metoda raspršivanja, ova je tehnika sigurna i ne uzrokuje oštećenje objekta premaza.

Pljusak plina koji se koristi u procesu važno je razmatranje. Vrsta plina za upotrebu ovisi o atomskoj težini supstrata. Na primjer, lakši materijali imaju koristi od upotrebe neona ili ksenona. Ako komora sadrži kisik, postupak će biti reaktivan.

Proces raspršivanja uključuje izlaganje ciljanog materijala reaktivnim plinovima. Ovi plinovi reagiraju s ciljnim materijalom i stvaraju molekularni spoj. Materijal se zatim taloži kao tanki filmski premaz. Na primjer, kada se silikonski cilj reaktivno raspršuje kisikom ili dušikom, on stvara silicij oksid ili silicijev nitrid. Ova se metoda često koristi za oblaganje više materijala istovremeno.

Magnetron stroj za raspršivanje

Prevlaci s više lutki i za prskanje mogu se odlagati u širokom rasponu boja. Zavijanje boja može se dodatno poboljšati uvođenjem reaktivnih plinova u komoru tijekom postupka taloženja. Široko korišteni reaktivni plinovi za ukrasne prevlake su dušik, kisik, argon ili acetilen. Dekorativni premazi proizvode se u određenom rasponu boja, ovisno o omjeru metala i plina u oblozi i strukturi premaza. Oba ova faktora mogu se izmijeniti promjenom parametara taloženja.

Prije taloženja dijelovi se čiste tako da površina nema prašine ili kemijskih nečistoća. Nakon što je postupak prevlačenja započeo, svi relevantni parametri procesa kontinuirano se nadgledaju i kontroliraju automatskim sustavom računalnog upravljanja.

• Materijal supstrata: staklo, metal (ugljični čelik, nehrđajući čelik, mesing), keramika, plastika, nakit.

• Vrsta strukture: okomita struktura, #304 nehrđajući čelik.

• Prevladavajući film: multifunkcionalni metalni film, kompozitni film, transparentni vodljivi film, film koji povećava refleksiju, elektromagnetski oklopni film, ukrasni film.

• Boja filma: multi boje, crna pištolja, zlatna boja od titana, zlatna boja ruža, boja od nehrđajućeg čelika, ljubičasta boja, tamno crna, tamnoplava i druga više boja.

• Vrsta filma: TIN, CRN, ZRN, TICN, TICRN, TINC, TIALN i DLC.

• Potrošni materijal u proizvodnji: Titanij, krom, cirkonij, željezo, legura; Cilj ravnine, cilindrični cilj, TWIN Target, suprotni cilj.