Kako stroj za PVD za oblaganje osigurava ujednačenost u debljini premaza u različitim dijelovima?

Vakuum komora u a PVD stroj za oblaganje igra kritičnu ulogu u osiguravanju ujednačenosti debljine premaza. U vakuumu se tlak održava na vrlo niskim razinama, što minimizira kontaminaciju od čestica zraka i omogućava neprekidno putovanje isparavanog metala prema supstratama. Ovo vakuumsko okruženje osigurava da materijal koji se deponira ima dosljedan put do svih područja dijelova, promovirajući na taj način jednolični sloj premaza. Bez smetnji otpornosti na zrak, isparivane čestice mogu doseći ciljnu površinu s minimalnim raspršivanjem, pružajući ujednačelju raspodjelu materijala za oblaganje.

Za daljnje promicanje ujednačenog premaza, mnogi PVD sustavi opremljeni su rotirajućim ili oscilirajućim učvršćenjima za dijelove koji se mogu pozlijediti. To osigurava da je svaki dio izložen materijalu za oblaganje iz više uglova, uklanjajući područja koja bi u suprotnom mogla primiti prekomjerno ili nedovoljno premaz. Rotiranjem ili premještanjem dijelova, stroj olakšava ravnomjerniji postupak taloženja, osiguravajući da nijedan dio supstrata nije zanemaren ili prekomjerno prekriven. Kretanje dijelova također pomaže ravnomjernije distribuirati isparivani materijal, posebno za dijelove složenim geometrijama ili više površina.

Precizna kontrola preko stope taloženja temeljni je aspekt postizanja ujednačene debljine premaza u PVD -u. Brzina taloženja odnosi se na to koliko brzo se materijal premaza isparava i deponira na podlogu. Kontrolni sustav PVD strojeva održava stalnu, stalnu brzinu kako bi se osiguralo dosljedno nakupljanje premaza. Fluktuacije ove brzine mogu rezultirati neravnomjernom debljinom, pa se parametri procesa poput unosa napajanja, brzine isparavanja materijala i tlaka komore pažljivo prate i podešavaju kako bi se taloženje održavala konzistentnim. Ujednačena brzina taloženja sprječava stvaranje debljih ili tanjih mjesta, osiguravajući da konačni proizvod zadovoljava zahtjevne standarde.

Strateško pozicioniranje izvora premaza (cilj) ključno je za postizanje čak i distribucije premaza. U mnogim PVD sustavima koristi se više ciljeva raspršivanja ili isparavanja, pri čemu je svaki cilj postavljen za usmjeravanje isparavanog materijala prema određenim područjima podloga. Dizajn sustava osigurava da se isparivani metal ravnomjerno usmjerava preko cijele površine dijela. Više ciljeva, posebno kada se konfigurira u kružnom ili radijalnom uzorku oko dijela, pružaju uravnoteženije taloženje premaza. Osiguravanjem pravilnog poravnanja izvora i podešavanjem položaja ciljnog materijala, stroj može optimizirati protok pare, povećavajući jednoličnost u različitim dijelovima.

U naprednim PVD strojevima često se koristi više ciljanih raspršivanja ili više-izvora sustava kako bi se osiguralo čak i premaz. Ovi sustavi koriste više od jednog cilja, koji se mogu prilagoditi neovisno ili koristiti zajedno kako bi se osiguralo jednolično taloženje pare. Svaki cilj može biti postavljen tako da pokriva određenu zonu ili kut dijela, osiguravajući da sve površine dobiju istu količinu materijala. Upotreba rotirajućih ili promjenjivih multi-ciljanih sustava povećava vjerojatnost jednoličnog premaza u dijelovima različitih oblika i veličina. Ova konfiguracija također omogućuje složenije prevlake, poput višeslojnih premaza, koji zahtijevaju preciznu kontrolu nad postupkom taloženja.